投影露光系、このような投影露光系の補助により微細構造の構成部材を製造する方法、このような系において使用するために適応させた偏光光学素子

【課題】特にマイクロリソグラフィの投影露光系において、ＥＵＶ領域の光によって極力正確な像を確保すること。 【解決手段】本発明は、特にマイクロリソグラフィ用の投影露光系に関する。本発明に係る投影露光系は、ＥＵＶ領域の光を発生させるための光源（１８）を備えている。投影露光系はさらに、光源（１８）の光によってマスク（２５）を照明するための第１の光学系（１９、２０、２１、２２、２３、２４）と、部材（３２）にマスク（２５）を結像するための第２の光学系（２６、２７、２８、２９、３０、３１）とを備えている。光源（１８）と部材（３２）との間のビーム経路に、少なくとも一つの偏光光学素子（１）が配置されている。 【選択図】図１３