单磁极磁头用Fe-Co膜及Fe-Co／Ni-Cr多层膜的磁性

随着磁盘面记录密度的不断增长，对其磁头的写入磁场也要求越来越高，垂直记录方法是使面记录密度超过100Gb／in^2的一种很有希望的方法。这就要求作为记录磁头材料在具有高的饱和磁感(Bs)同时还要具有优异的软磁性，特别是剩磁(Br)要小。日本日立的罔田泰行等开发出一种新的加底层(非磁性层)的单层膜和多层膜。这种膜是采用RF磁溅射方法制成。