Étude de faisabilité d'une terminaison de jonction basée sur des tranchées profondes pour des composants haute tension (1200 V)

Nous presentons ici l'etude de la faisabilite d'une nouvelle terminaison de jonction utilisant une tranchee profonde de 70
m de large et de 100
m de profondeur remplie par un materiau dielectrique. Les simulations, avec Sentaurus TCAD, ont montre une tenue en tension superieure a 1200 V pour cette terminaison. Le remplissage de la tranchee de terminaison par un dielectrique etant indispensable, nous avons donc etudie la possibilite d'utiliser un polyimide a faible constante dielectrique. Outre ses bonnes caracteristiques electriques, le BenzoCycloButene (BCB) a permis un bon remplissage des tranchees profondes. Enfin, nous avons etudie le polissage du BCB par la technique de polissage mecano-chimique (CMP) dans le but d'aplanir et eventuellement de supprimer l'exces de BCB sur la surface de la plaque. En utilisant une suspension de polissage d'un pH 2,5 (acide), nous avons obtenu une vitesse de gravure par polissage d'environ 0,24
m/min pour le BCB. L'etat de surface du BCB apres CMP presente une rugosite, Ra, de 1,04 nm mesuree par AFM.