スイッチング素子、スイッチング素子の製造方法、書き換え可能な論理集積回路、およびメモリ素子

2005 
本発明のスイッチング素子は、金属イオンが伝導可能なイオン伝導層40と、イオン伝導層40に接するように設けられた第1電極21および第2電極31と、イオン伝導層40に接して設けられ、金属イオンを供給可能な第3電極35とを有し、第1電極21のイオン伝導層40に接する面積が第2電極31のイオン伝導層40に接する面積よりも小さい構成である。このような構成にすることで、オフ状態のリーク電流が低減する。
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