A method for cleaning photomasks using megasonic

Ein Verfahren zur Reinigung von Fotomasken wird beschrieben, bei dem Megaschallenergie in eine Flussigkeit auf der Oberflache der zu reinigenden Fotomaske eingeleitet wird. Um die Reinigung zu begunstigen und um Kavitationsereignisse in der Flussigkeit zu steuern, enthalt die Flussigkeit wenigstens eine erste Komponente, die einen pH-Wert von mindestens 7, ein Zeta-Potential von hochstens –20, einen Siedepunkt von mindestens 60°C und einen Dampfdruck von weniger als 40 mmHg bei 25°C hat.