ИССЛЕДОВАНИЕ ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ ПОРИСТОГО КРЕМНИЯ С ВНЕДРЕННЫМИ МЕТАЛЛАМИ FE, CO И NI МЕТОДАМИ ОЖЕ-СПЕКТРОСКОПИИ И РЕНТГЕНОВСКОЙ ФОТОЭЛЕКТРОННОЙ СПЕКТРОСКОПИИ

Композитный материал из пористого кремния с внедренными d-металлами por-Si(Me) может использоваться при изготовлении ячеек памяти. Пористый кремний получали электрохимическим травлением на подложках КЭФ (100) по стандартной технологии, после чего в него внедряли металлы Fe, Co, Ni гальваническим осаждением из водных растворов соответствующих солей сульфатов. Оже-профили полученных материалов por-Si(Fe), por-Si(Co) и por-Si(Ni) показали, что их поверхностные слои толщиной до 40 нм содержат около 10% Fe и не более 1% Co и Ni. Эти факты подтверждают полученные ранее другими методами данные о том, что Co и Ni, в отличие от Fe, проникают в глубину пор. На основании зависимости относительной интенсивности максимумов энергетического расщепления XPS-спектров 3s от числа неспаренных d-электронов в системах с 3d-металлами проведена оценка магнитного момента атома нанокристаллического Ni в por-Si(Ni). Полученное значение 2.4 мкБ превосходит атомный магнитный момент в объемном металлическом Ni.