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G115 インフライトプラズマCVDによるシリコン量子ドット合成及び薄膜形成への応用(OS-9: エネルギー・CO_2削減(1))
G115 インフライトプラズマCVDによるシリコン量子ドット合成及び薄膜形成への応用(OS-9: エネルギー・CO_2削減(1))
2012
riku yamada
Gresback Ryan
kei sui maezono
takesi okazaki
tomohiro nozaki
Keywords:
Nanotechnology
Plasma-enhanced chemical vapor deposition
Materials science
Inorganic chemistry
silicon quantum dots
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