Funktionelle PECVD-Schichten in großer Vielfalt

Die Plasmagestutzte Gasphasenabscheidung (PECVD Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) halt nach ihrem Siegeszug in der Halbleitertechnologie vermehrt Einzug in die Oberflachenveredelung von Werkstoffen und Bauteilen anderer Industriezweige. Dabei sind gezielte Anderungen von Oberflacheneigenschaften moglich, ohne die sonstigen Bauteileigenschaften zu beeinflussen.