Processus de fabrication collective de membranes et de cavités à haute précision de petit volume

L'invention concerne un processus de fabrication collective de cavites et/ou de membranes (24) d'epaisseur donnee d, dans une plaquette constituee d'une couche semi-conducteur sur isolant, comprenant au moins une couche de surface semi-conductrice d'epaisseur d sur une couche isolante, cette couche isolante elle-meme etant supportee sur un substrat, ledit processus consistant : - a graver la couche de surface semi-conductrice d'epaisseur d, la couche isolante constituant une couche d'arret, pour realiser lesdites cavites et/ou membranes dans la couche de surface.