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Acemap > Paper > 電子線照射された高移動度金属‐酸化物‐シリコントランジスタにおける浅いSi/SiO2界面トラップのアニーリング

電子線照射された高移動度金属‐酸化物‐シリコントランジスタにおける浅いSi/SiO2界面トラップのアニーリング

2017 
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