プロセス近接効果の予測モデルの作成方法、工程の管理方法、半導体装置の製造方法、フォトマスクの製造方法およびプログラム

【課題】 精度が高いプロセス近接効果の予測モデルを実現すること。 【解決手段】 予測モデルの作成方法は、基本パターンの繰り返しで構成された繰り返しパターンに対して、基本パターンを規定する第１の寸法および基本パターンの繰り返しを規定する第２の寸法をそれぞれ変えて得られた、複数の繰り返しパターンで構成されたモデリング用パターン群を用意する工程得数Ｓ１と、モデリング用パターン群の中から、所定の繰り返しパターンを選択する工程であって、所定の繰り返しパターン中の基本パターンがウェハ上に形成される所定の寸法を有するパターンに対応したものである工程Ｓ２と、所定の繰り返しパターンおよび所定の寸法を有するパターンに基づいて、予測モデル中の未確定のパラメータを確定する工程Ｓ５とを有する。 【選択図】 図１