Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsäurehaltigem Glas für ein Spiegelsubstrat für den Einsatz in der EUV-Lithographie

Verfahren zur Herstellung eines Rohlings aus Titan-dotiertem, hochkieselsaurehaltigem Glas (Ti-dotiertes Kieselglas) fur ein Spiegelsubstrat fur den Einsatz in der EUV-Lithographie, der einen zu verspiegelnden Oberflachenbereich aufweist, wobei mindestens das Ti-dotierte Kieselglas fur den Oberflachenbereich mittels Flammenhydrolyse von Silizium und Titan enthaltenden Ausgangssubstanzen erzeugt, und in dem Ti-dotierten Kieselglas anhand eines Konditionierungsprozesses unter Bildung des Rohlings ein vorgegebener Wasserstoffgehalt eingestellt wird, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Flammenhydrolyse ein Sootkorper aus mit Titan dotiertem SiO 2 erzeugt wird, der Sootkorper durch Erhitzen auf eine Temperatur von mindestens 1150°C unter Vakuum getrocknet wird, so dass sich ein mittlerer Hydroxylgruppengehalt von weniger als 150 Gew.-ppm einstellt, der getrocknete Sootkorper unter Bildung einer Vorform aus Ti-dotiertem Kieselglas gesintert, und das Ti-dotierte Kieselglas mittels des Konditionierungsprozesses mit Wasserstoff beladen wird, so dass sich ein mittlerer Wasserstoffgehalt von mindestens 1 × 10 16 Molekulen/cm 3 einstellt.