Espectroscopia Fotoelectrónica de rayos X (XPS) – Un fundamento

La Espectroscopia Fotoelectronica de rayos X (X ray Photoelectron Spectroscopy), es el resultado de irradiar una muestra con rayos X, posteriormente se generan los fotoelectrones a partir de la superficie del material. Una de las principales ventajas radica en que la energia de los fotoelectrones es dependiente de la configuracion electronica y quimica de los atomos presentes en la superficie. Esto permite obtener los llamados corrimientos quimicos, que en un espectro XPS comun se observan como picos a una determinada posicion. El XPS es una tecnica de analisis quimico superficial virtualmente aplicable a todas aquellas muestras estables en condiciones de Ultra Alto Vacio (UAV), debido a que los rayos X incidentes normalmente no degradan las superficies de las muestras. Actualmente representa una de las mas importantes tecnicas de caracterizacion de superficies de materiales. Es esencial en la determinacion de la composicion quimica, tanto desde el punto de vista cualitativo como cuantitativo de la superficie de diferentes materiales, estos involucran ceramicos, microelectronicos, semiconductores, plasticos y polimeros, catalizadores, repuestos, partes mecanicas, entre otros.