A method for producing a set of masks and mask set to define a pattern

Verfahren zum Herstellen eines Maskensatzes zum Definieren eines Musters, das eine erste Musterregion und eine zweite Musterregion aufweist, mit folgenden Schritten: Bilden einer ersten Halbtonschicht (54) an einem ersten Maskensubstrat (50); Bilden einer ersten Schutzschicht (52) an der ersten Halbtonschicht (54); Strukturieren der ersten Halbtonschicht (54) und der ersten Schutzschicht (52), um eine erste Maskenschicht (30) zu bilden, wobei die erste Maskenschicht (30) eine erste Belichtungsregion (56), in der die erste Musterregion definiert ist, und eine erste Abschirmregion, die die zweite Musterregion bedeckt, aufweist, und Bilden einer zweiten Halbtonschicht (64) an einem zweiten Maskensubstrat (60); Bilden einer zweiten Schutzschicht (62) an der zweiten Halbtonschicht (64); Strukturieren der zweiten Halbtonschicht (64) und der zweiten Schutzschicht (62), um eine zweite Maskenschicht (40) zu bilden, wobei die zweite Maskenschicht (40) eine zweite Belichtungsregion (66), in der die zweite Musterregion definiert ist, und eine zweite Abschirmregion, die die...