Procede permettant de modifier un film isolant

La presente invention concerne un procede qui permet d'ameliorer les caracteristiques d'un film isolant, en neutralisant la deterioration des caracteristiques du film isolant due a un carbone, a un sous-oxyde, a une liaison pendante ou analogue contenue dans un film isolant de grille d'un MOSFET ou un film isolant interelectrodes d'un condensateur dans un dispositif memoire. Selon l'invention, un film isolant est soumis a un traitement de modification dans lequel sont combines un traitement au plasma faisant appel a un plasma produit a partir d'un gaz de traitement contenant un gaz noble et un traitement de recuit thermique.