APPLICATION OF MINIMUM PROJECTION UNIFORMITY CRITERION IN COMPLEMENTARY DESIGNS

在这篇文章，我们在设计理论考虑描述问题。目的是以他们的互补图案为二水平的图案描绘最小的设计一致性。这里，互补设计意味着任何二跑的所有 Hamming 距离是一样的一个在图案，它在文学概括一双互补图案的概念。基于在一双互补图案之间的一致性模式的关系，我们建议一条最小的设计一致性(微处理器) 规则估计并且比较二水平的阶乘。