Appareil de depot de couche atomique (ald) a tranche unique et a ecoulement symetrique de petit volume

La presente invention a trait a un chambre de reaction de depot de couche atomique (ALD) contenant un suscepteur chauffant verticalement mobile comportant un conduit d'ecoulement annulaire fixe a sa peripherie, ledit conduit presentant une surface exterieure a sa peripherie qui assure l'isolation de l'espace exterieur du reacteur au-dessus d'une tranche et en-dessous de la tranche jusqu'au fond du conduit d'ecoulement annulaire lorsque le suscepteur chauffant est dans sa position de traitement. Lorsque le suscepteur se trouve dans sa position de traitement, la peripherie exterieure du conduit d'ecoulement annulaire est disposee a proximite d'une bague annulaire fixee a un couvercle du reacteur et conjointement avec la bague et le conduit forment une configuration d'emboitement double. Dans certains modes de realisation, la configuration d'emboitement double peut presenter un profil d'escalier, limitant ainsi le refoulement en diffusion des gaz en aval vers l'espace exterieur du reacteur.