Plaque maîtresse d'impression lithographique et procédé de fabrication de plaque maîtresse d'impression lithographique

L'invention concerne une plaque d'impression lithographique presentant d'excellentes caracteristiques de durabilite et de resistance aux taches, ainsi qu'une resistance aux taches dans le temps; et un procede de fabrication d'une plaque lithographique. La plaque maitresse d'impression lithographique comprend un support, une couche photosensible formee sur le support, et une autre couche eventuellement formee entre le support et la couche photosensible; la couche photosensible ou l'autre couche adjacente au support contiennent un copolymere (A); le copolymere (A) comporte (al) des motifs repetes presentant la structure representee par la formule suivante dans les chaines laterales, et (a2) des motifs repetes comportant au moins une des structures representees par les formules (a2-1) to (a2-6) dans les chaines laterales (L 1 representant un groupe aromatique divalent a liaison simple dote de 6 a 14 atomes de carbone, -C(=O)-O-, ou -C(=O)-NR 2 -; Z 1 represente un groupe de liaison divalent; R 1 represente un atome d'hydrogene, un groupe alkyle, un groupe aryle, un groupe heterocyclique, un groupe sulfo, un groupe alkyle sulfonyle ou un groupe aryle sulfonyle; et R 21 , R 22 et R 23 representent des atomes d'hydrogene, des atomes d'halogene ou des groupes alkyle dotes de 1 a 8 atomes de carbone).