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Al 2 O 3 /GaN界面特性に対する原子層堆積法における酸化剤の影響
Al 2 O 3 /GaN界面特性に対する原子層堆積法における酸化剤の影響
2018
Taoka Noriyuki
Kubo Toshiharu
Yamada Toshikazu
Egawa Takashi
Shimizu Mitsuaki
Keywords:
Materials science
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