投影露光装置、収差評価用マスクパタン、収差量評価方法、収差除去フィルター及び半導体装置の製造方法

(57)【要約】 【課題】 この発明は、光学系が伴う収差の影響を除去 して高精度のパタン転写を行うことができる投影露光装 置を提供することを課題とする。 【解決手段】 ランプハウス１から発せられた紫外線は フライアイレンズ３で互いに独立な多数の点光源に分割 され、さらにアパーチャー４により整形されて２次光源 面を形成し、ブラインド６で露光領域が設定された後、 フォトマスク１０を照明し、フォトマスク１０からの回 折光の光源像が投影光学系１１の瞳面上に形成される。 投影光学系１１の瞳面上に配置された収差除去フィルタ ー１３により波面収差が補償された後、ウエハ１２上に 回路パタンが結像される。