マスク、マスクの製造方法、パターン形成方法、配線パターン形成方法

【課題】 マスク強度の向上及び、配線パターンとなるパターン領域を高解像度で、かつ、大面積のパターン領域を一括でパターニングすることができるマスクを提供する。 【解決手段】 本発明のマスクは、基板上に所定パターンを形成するためのマスクであって、所定パターンに対応する開口部１６が設けられたパターン形成部材１０と、前記パターン形成部材１０の一面に重ねて設けられたパターン保持部材１２と、を備えることを特徴とする。 【選択図】 図１