Appareil et procédé de dépôt uniforme

Dans des modes de realisation, l'invention concerne en general un appareil et un procede de depot uniforme de materiaux par pulverisation sur la paroi inferieure et les parois laterales d'un substrat caracterisees par un rapport de forme eleve. Dans un mode de realisation, un systeme de depot par pulverisation comprend un collimateur dote de trois ouvertures presentant des rapports de forme qui diminuent du centre du collimateur vers sa peripherie. Dans un mode de realisation, le collimateur est couple a un blindage a la terre via un element de support qui comprend une combinaison d'elements de fixation filetes a l'interieur et a l'exterieur. Dans un autre mode de realisation, le collimateur est fixe d'un seul tenant a un blindage a la terre. Dans un dernier mode de realisation, l'invention concerne un procede de depot de materiau par pulverisation consistant a impulser une polarisation comprise entre des valeurs faibles et elevees sur un support de substrat.