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最新CMOS接触における酸素誘電体挿入のためのFermi脱ピン止め,双極子と酸化物トンネルに関する考察【Powered by NICT】
最新CMOS接触における酸素誘電体挿入のためのFermi脱ピン止め,双極子と酸化物トンネルに関する考察【Powered by NICT】
2016
Julien Borrel
L. Hutin
Helen Grampeix
Emmanuel Nolot
E. Ghegin
Ph. Rodriguez
C. Tabone
F. Allain
Barnes J.-P.
Y. Morand
F. Nemouchi
M. Gregoire
Emmanuel Dubois
M. Vinet
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