EUV-Spiegelanordnung, optisches System mit EUV-Spiegelanordnung und Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems mit EUV-Spiegelanordnung

Eine EUV-Spiegelanordnung (100) hat einer Vielzahl von nebeneinander angeordneten Spiegelelementen (110, 111, 112), die gemeinsam eine Spiegelflache der Spiegelanordnung bilden. Jedes Spiegelelement hat ein Substrat (120) und eine auf dem Substrat aufgebrachte, fur Strahlung aus dem extremen Ultraviolettbereich (EUV) reflektierend wirkende Mehrlagen-Schichtanordnung (130), die eine Vielzahl von Schichtpaaren (135) mit abwechselnden Schichten aus einem hoch brechenden Schichtmaterial und einem niedrig brechenden Schichtmaterial umfasst. Die Mehrlagen-Schichtanordnung weist eine zwischen einer Strahlungseintrittsflache und dem Substrat angeordnete, aus einem piezoelektrisch aktiven Schichtmaterial bestehende aktive Schicht (140) auf, deren Schichtdicke (z) durch Einwirkung eines elektrischen Feldes veranderbar ist. Fur jede aktive Schicht ist eine Elektrodenanordnung zur Erzeugung eines auf die aktive Schicht wirkenden elektrischen Feldes vorgesehen.