Procédé de dépôt de nanoparticules métalliques par dépôt physique en phase vapeur

La presente Invention est relative a un procede de depot de nanoparticules metalliques par depot physique en phase vapeur a la surface d'un substrat pouvant etre sensible thermiquement, a une pression de l'ordre de quelques dizaines de Pascals, ainsi qu'aux substrats obtenus en mettant en oeuvre ce procede et a leurs applications.