フィールド強化型誘導結合プラズマ(fe−icp)リアクタ

2009 
フィールド強化型誘導結合プラズマリアクタ及びその利用法の実施形態が、本明細書に提供される。いくつかの実施形態では、フィールド強化型誘導結合プラズマ処理システムは、誘電性の蓋及び誘電性の蓋の上方に配置されるプラズマ源アセンブリを有するプロセスチャンバを含んでもよい。プラズマ源アセンブリは、プロセスチャンバ内にプラズマを形成して維持するためのRF電力をプロセスチャンバ内に誘導結合するために構成される1以上のコイルと、プロセスチャンバ内にプラズマを形成するためのRF電力をプロセスチャンバ内に容量結合するために構成され、1以上のコイルのうちの1つに電気的に結合される1以上の電極と、1以上の誘導コイル及び1以上の電極に結合されるRFジェネレータとを含む。いくつかの実施形態では、ヒーター要素は誘電性の蓋とプラズマ源アセンブリの間に配置されてもよい。
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