掺锡氧化铟陶瓷靶材在直流磁控溅射过程中“结瘤”的形成与演化

以共沉淀ITO粉制备的陶瓷靶材为溅射靶，采用EDX、XRD、SEM研究了靶材在磁控溅射过程中“结瘤”的化学组分及物相组成，并对不同阶段“结瘤”的微观结构进行表征，探讨了“结瘤”的生长演化过程及形成机理。结果表明：“结瘤”与靶材基体具有相同的化学组成及物相结构，其生长演化分为锥状“结瘤”的形成及生长、锥顶外皮脱落、“结瘤”断裂、断面平滑、诱发新“结瘤”产生5个阶段。溅射过程中的“自溅射”效应使外来杂质颗粒和In：0，分解产生的InO在靶材表面形成的凸起逐渐长大并最终形成“结瘤”。