レジスト組成物、積層体、及びレジストパターン形成方法

【課題】レジストパターンを形成した後に加熱等の処理を行うことにより当該レジストパターンを狭小させるシュリンクプロセスにおいて、良好なレジストパターンを形成することができるレジスト組成物、該レジスト組成物を用いた積層体及びレジストパターン形成方法を提供すること。 【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを含むレジスト組成物であって、前記（Ａ）成分が、（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位を含有し、かつ１２０〜１７０℃の範囲内のガラス転移温度を有する樹脂であることを特徴とするレジスト組成物。 【選択図】 なし