Сравнение методов химического и ионного травления при формировании топологии резистивного слоя чип-резисторов

В. Н. Уткин,М. А. Исаков,О. Е. Хапугин

Сравнение методов химического и ионного травления при формировании топологии резистивного слоя чип-резисторов

2007

В. Н. Уткин
М. А. Исаков
О. Е. Хапугин

Quality of formation of topology of a resistive layer thin-film the chip-resistor meandr-type, formed by methods of chemical and ionic etching is experimentally investigated.

Keywords:

Ionic bonding
Analytical chemistry
Resistive touchscreen
Chemistry
Etching
Chemical engineering

Correction
Source
Cite
Save
Machine Reading By IdeaReader

References

Citations