Ecran au plasma, son procede de fabrication, et le materiau de ses couches protectrices

L'invention porte sur un ecran au plasma presentant une excellente reponse creatrice de decharges lors de l'application de tensions en raison du raccourcissement du delai de decharge et de la moindre sensibilite de ce dernier aux variations de temperature. Le substrat frontal (4) comporte une electrode de balayage (5), et une electrode de maintien (6) recouverte d'une couche dielectrique (9), elle-meme recouverte d'une couche protectrice (10) d'oxyde de magnesium enrichie en silicium a raison de 5 x 1018 a 2 x 1021 atomes/cm3 et en carbone a raison de 1 x 1018 a 2 x 1021 atomes/cm3.