Dispositif à onde acoustique et procédé de fabrication de celui-ci

L'invention concerne un dispositif a onde acoustique et un procede de fabrication de celui-ci, ayant pour but de reduire la dependance vis-a-vis de la temperature de la frequence d'un dispositif a onde acoustique, et de reduire la variation du coefficient de temperature de frequence (TCF) lors de la fabrication de dispositif a onde acoustique. Le procede de fabrication du dispositif a onde acoustique comprend une premiere etape de formation de film (S10) destinee a former un film en silice, une etape de mesure (S12) destinee a mesurer une valeur relative aux vibrations de mise sous tension des liaisons Si-O du film en silice, et une seconde etape de formation de film (S18), dans les conditions utilisees dans la premiere etape de formation de film (S10), destinee a former un film en silice sur un substrat lorsque la valeur est comprise dans une plage cible.