Film contenant du silicium, composition de résine et procédé de formation de motif

L'invention porte sur un film contenant du silicium presentant une excellente adherence a un motif de reserve et peu de suintement du materiau de reserve, sur une composition de resine pour former le film contenant du silicium et sur un procede de formation de motif qui utilise le film contenant du silicium. Le procede de formation de motif pour lithographie par nano-impression comporte : 1) une etape a laquelle un film contenant du silicium, dans lequel le rapport massique entre les atomes de silicium et les atomes de carbone dans le film contenant du silicium est atomes de silicium/atomes de carbone = 2-12, est forme sur un substrat devant etre traite ; 2) une etape a laquelle une couche de transfert faconnable est formee sur le film contenant du silicium susmentionne, un motif fin est transfere sur la couche de transfert faconnable a l'aide d'une matrice qui presente un motif fin, et le motif de reserve est forme ; et 3) une etape a laquelle le film contenant du silicium susmentionne et le substrat susmentionne devant etre traite sont graves a sec, en utilisant le motif de reserve susmentionne comme masque pour former un motif sur le substrat susmentionne devant etre traite.