Method for improving the uniformity of film critic dimension has ordered copolymers of blocks

La presente invention concerne un procede de controle de l'uniformite de dimension critique de films ordonnes de copolymeres a blocs a l'echelle nanometrique. L'invention concerne egalement les compositions utilisees pour controler l'uniformite de dimension critique de films ordonnes de copolymeres a blocs et les films ordonnes ainsi obtenus pouvant etre utilises en particulier comme masques dans le domaine de la lithographie.