Chambre de traitement destinée à la répartition d'espace diélectrique

L'invention concerne un systeme permettant de former une couche dielectrique sur un substrat a partir d'un plasma de precurseurs dielectriques. Le systeme peut comprendre une chambre de depot, un etage de substrats situe dans la chambre de depot pour maintenir le substrat et un systeme de generation de plasma eloigne couple a la chambre de depot, le systeme de generation de plasma etant utilise pour generer un precurseur dielectrique ayant un ou plusieurs radicaux reactifs. Le systeme peut egalement comprendre un pomme de douche a double canal positionnee sur l'etage de substrats. La pomme de douche peut comprendre une dalle disposant d'une premier ensemble d'ouvertures par l'intermediaire duquel le precurseur radical reactif penetre dans la chambre de depot, et un deuxieme ensemble d'ouvertures par l'intermediaire duquel un deuxieme precurseur electrique penetre dans la chambre de depot. Un systeme de generation de plasma in-situ peut egalement etre introduit dans le systeme pour generer le plasma dans la chambre de depot a partir des precurseurs dielectriques fournis a la chambre de depot.