ESTUDO DE DEPOSIÇÃO DE FILMES FINOS EM PLASMAS DE AR/AR-H2 EM REGIÕES DE PÓS-DESCARGA DE CATODO OCO

O Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposicao de filmes finos atraves de sputtering com liberacao de atomos neutros do catodo. O Plasma DC de Ar-H 2 de catodo oco usado atualmente na industria tem demonstrado ser mais eficiente na limpeza de superficies e deposicao de filmes finos quando comparado ao plasma de argonio. Quando desejamos evitar os efeitos do bombardeamento ionico da descarga no substrato utiliza-se a regiao de pos-descarga. Geraram-se descargas por plasma de argonio e hidrogenio no catodo oco para deposicao de filmes finos de titânio em substrato de vidro. A espectroscopia de emissao otica foi empregada para o diagnostico na pos-descarga e os filmes formados foram analisados atraves da tecnica de perfilometria mecânica. Observaram-se variacoes para a taxa de deposicao do titânio sobre o substrato de vidro para diferentes parâmetros do processo, tempo de deposicao, distancia da descarga, e gases de trabalho. Verificou-se um aumento da intensidade relativa das especies de argonio com a introducao de gas hidrogenio.