Systeme de traitement au plasma

Cette invention concerne un systeme de traitement au plasma qui comprend une chambre pouvant rester sous vide, une unite de decharge pour l'evacuation de la chambre, une unite d'alimentation de la chambre en gaz de traitement, une electrode inferieure disposee dans la chambre et concue pour supporter un objet a traiter, et une electrode superieure opposee a l'electrode inferieure. A l'exterieur de la chambre se trouve une source d'energie haute frequence dont le dispositif d'alimentation va jusqu'a l'electrode inferieur. Un dispositif de reglage permet de regler l'impedance sur un chemin de retour de courant allant du plasma du gaz de traitement produit entre les electrodes superieure et inferieure via le dispositif d'alimentation en energie haute frequence, jusqu'a la source d'alimentation haute frequence via la paroi interne de la chambre.