Old Web
English
Sign In
Acemap
>
Paper
>
Beheerde etsing van die SiC-laag in TRISO-bedekte partikels in ’n nie-termiese CF4 plasma
Beheerde etsing van die SiC-laag in TRISO-bedekte partikels in ’n nie-termiese CF4 plasma
2020
Renier Koen
Izak J. van der Walt
Arnold A. Jansen
Philippus L. Crouse
Keywords:
Materials science
Plasma
Analytical chemistry
Correction
Source
Cite
Save
Machine Reading By IdeaReader
13
References
0
Citations
NaN
KQI
[]