Procédé de production de revêtement à faible frottement et procédé de coulissement

Selon la presente invention, une surface de glissement (6), qui est formee a l'aide d'un metal (SUJ2, palladium, etc.) ou d'une ceramique d'oxyde (ZrO 2 ), est amenee a coulisser, a une contrainte de contact de Hertz superieure ou egale a 1,0 GPa dans un environnement atmospherique contenant de l'hydrogene gazeux qui comprend une quantite infime d'un alcool et d'eau, contre une surface (7) de coulissement, ladite surface comprenant un film de PLC (9) qui est un revetement forme au moyen d'un procede de depot avec ionisation avec application simultanee d'une faible tension de polarisation. Ceci permet de former, sur la surface de coulissement (6), un revetement a faible frottement (5) qui presente de facon stable un tres faible coefficient de frottement de l'ordre de 10 -4 (inferieur a 0,001).