Composition servant à la formation de film de sous-couche de résine et procédé de formation de motif

La presente invention se rapporte a une composition servant a la formation d'un film de sous-couche de resine qui contient un solvant organique et un compose calixarene, au moins quelques atomes d'hydrogene dans les groupes hydroxyle phenoliques d'un calixarene etant substitues par des groupes organiques monovalents comportant de 1 a 30 atomes de carbone. Les groupes organiques monovalents peuvent de preference contenir un groupe reticulable. En ce qui concerne le compose calixarene, il est preferable que certains atomes d'hydrogene dans les groupes hydroxyle phenoliques soient substitues. Le rapport entre le nombre de groupes hydroxyle phenoliques substitues et le nombre de groupes hydroxyle phenoliques non substitues dans le compose calixarene est de preference de 30/70 a 99/1 (inclus).