Influence of Aluminum Ions Implantation on Corrosion Behavior of Zircaloy-2 Alloy in 1M H2SO4

标本与铝离子被植入， fluence 从 1 × 1 016 ～ 1 × 1 在 40 kV 的抽取电压由金属蒸汽真空弧来源(MEVVA ) 在 zircaloy-2 的水的腐蚀行为上学习铝离子培植的效果的 017 ions/cm2。原子价状态；在样品的表面层的元素的深度分布被 X 光检查光电子光谱学(XPS ) 分析；俄歇电子光谱学(AES ) 分别地。传播电子显微镜学(TEM ) 被用来检验植入铝的样品的微观结构。看一眼的角度 X 光检查衍射(GAXRD ) 被采用由于铝离子培植检验阶段转变。potentiodynamic 极化技术被采用在 1 个 M H2SO4 答案评估植入的 zircaloy-2 的水的腐蚀电阻。重要改进在与铝离子植入的 zircaloy-2 的水的腐蚀电阻被完成，这被发现。最后，植入铝的 zircaloy-2 的腐蚀行为的机制被讨论。