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数値制御プラズマCVM (Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化 : デバイス用基板としての加工面の評価
数値制御プラズマCVM (Chemical Vaporization Machining)によるSOIの薄膜化 : デバイス用基板としての加工面の評価
2003
yuuzou mori
yasuhisa sano
kazuya sanson
satosi morita
mizuho morita
itirou oosima
yuuzi saitou
sei ri sugawa
tadahiro oomi
Keywords:
MOSFET
Metallurgy
Machining
Silicon on insulator
Vaporization
Analytical chemistry
Materials science
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