Pistolet de pulvérisation cathodique à ionisation métallique élevée

Un aspect de l'invention porte sur une chambre de traitement. La chambre comprend une pluralite de pistolets de pulverisation cathodique avec une cible fixee a une extremite de chacun des pistolets de pulverisation cathodique. Chacun de la pluralite de pistolets de pulverisation cathodique est couple a une premiere source d'alimentation. La premiere source d'alimentation peut fonctionner de facon a delivrer une alimentation pulsee a chacun de la pluralite de pistolets de pulverisation cathodique. L'alimentation pulsee a un rapport cyclique qui est inferieur a 30 %. Un support de substrat dispose a une certaine distance vis-a-vis de la pluralite de pistolets de pulverisation cathodique est inclus. Le support de substrat est couple a une seconde source d'alimentation. La seconde source d'alimentation peut fonctionner de facon a polariser un substrat dispose sur le support de substrat, le rapport cyclique de la seconde source d'alimentation etant synchronise a un rapport cyclique de la premiere source d'alimentation. L'invention porte egalement sur un procede de realisation d'un processus de deposition.