Composition pour la production d'un film de sous-couche de réserve photosensible et procédé pour la formation d'un motif de réserve

L'invention porte sur : une composition pour la production d'un film de sous-couche de reserve photosensible; et un procede pour la formation d'un motif de reserve. De facon specifique l'invention porte sur une composition pour la production d'un film de sous-couche de reserve photosensible, qui comprend un polymere ayant un motif de structure represente par la formule (1), un compose ayant au moins deux groupes ethers de vinyle, un generateur de photoacide et un solvant. (Dans la formule, R 1 represente un atome d'hydrogene ou un groupe methyle; R 2 represente un groupe alkyle ayant 1 a 4 atomes de carbone; et i represente un entier de 0 a 4.)