Leis de escala e dimensão fractal em filmes finos : microscopia de força atômica e técnicas eletroquímicas

Neste trabalho, a morfologia da superficie de filmes finos de NiOx e MoOx depositados por pulverizacao catodica foi estudada atraves da tecnica de microscopia de forca atomica e por tecnicas eletroquimicas (voltametria ciclica e espectroscopia de impedância eletroquimica). Em cada tecnica, a caracterizacao da superficie foi feita por meio de sua dimensao fractal, usando-se o conceito de leis de escala. Os resultados da microscopia de forca atomica mostraram que os filmes apresentam uma morfologia granular, tipica de superficies depositadas por esta tecnica. Para todas as amostras foram obtidos dois valores para a dimensao fractal, indicando duas dinâmicas de crescimento distintas: uma global, relacionada a distribuicao dos graos na superficie da amostra e outra local, associada a distribuicao existente no topo de cada grao. Resultados semelhantes foram obtidos por voltametria ciclica e impedância eletroquimica. Por voltametria ciclica, a dinâmica de crescimento local e evidenciada em altas velocidades de varredura, enquanto que o regime global e associado a medidas em baixas velocidades de varredura. A faixa de frequencia escolhida nos experimentos de espectroscopia de impedância eletroquimica foi compativel com as estruturas menores da superficie (regime local). Em todos os casos, os valores da dimensao fractal encontrados estao em boa concordância Abstract