Compositions d’adhesifs a base de copolymere bloc styrene butadiene styrene presentant une resistance amelioree a la photo-oxydation

La presente invention concerne des compositions d'adhesifs sensibles a la pression a base de styrene butadiene styrene, presentant une resistance amelioree a la photo-oxydation, contenant des amines empechees steriquement, N-methyle substituees, en tant que stabilisants. D'autres aspects de l'invention concernent un procede de stabilisation de compositions d'adhesifs sensibles a la pression a base de butadiene, et l'utilisation d'amines empechees steriquement, N-methyle substituees, en tant que stabilisants pour les adhesifs sensibles a la pression a base de styrene butadiene styrene.