반도체용 탄탈럼 타겟의 제조방법 및 이로부터 제조된 탄탈럼 스퍼터링 타겟

본 발명은 소결법을 이용하여 고순도, 저가스 함량의 미세결정립을 갖는 탄탈럼 타겟의 제조방법을 제공한다. 본 발명에서는 Ta 분말을 이용하여 소결 후 열처리 및 압연 공정을 이용함으로써, 고순도와 낮은 가스 함량을 가지면서, 결정립이 제어되는 탄탈럼 타겟을 제조할 수 있다.