Appareil de traitement et procede de nettoyage

L'invention concerne un appareil de traitement (10) du type a plaques paralleles, lequel execute un depot chimique en phase vapeur active par plasma et comprend une chambre (11) a nettoyer. Afin d'effectuer le nettoyage de cette chambre (11), on produit du plasma d'un gaz comprenant du fluor, a l'exterieur de la chambre (11), et on introduit ce gaz dans celle-ci. Pendant l'etape de nettoyage, on applique une puissance R.F. sur les plaques electrodes (12, 17), a l'interieur de la chambre.