Verfahren zum Aufbringen von Substanzen in definierten Zielpositionen auf mindestens einem beliebig ausgerichteten flächigen Substrat

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Aufbringen von Substanzen in definierten Zielposition auf mindestens einem beliebig ausgerichteten flachigen Substrat mittels einer Dosiereinrichtung, die mindestens zwei Dosierkopfe aufweist, wobei die Dosierkopfe mit der Dosiereinrichtung entlang mindestens zweier Verfahrrichtungen relativ zu einem Dosierbereich dergestalt verfahrbar sind, dass die Dosierkopfe alle definierten Zielpositionen eines im Dosierbereich angeordneten Substrats anfahren und dort Substanz aufbringen konnen, und ist dadurch gekennzeichnet, dass a) eine entlang einer ersten Verfahrrichtung relativ zu den Substraten verfahrbare Dosiereinrichtung (10) eingesetzt wird, an der in Richtung einer zweiten Verfahrrichtung verstellbar ausgebildete Dosierkopfe (A, B und C) angeordnet sind, b) in einem ersten Schritt die genauen Positionen der einzelnen Substrate (12, 13) in dem Dosierbereich (21) ermittelt werden und daraus die Koordinaten der von den Dosierkopfen anzufahrenden Zielpositionen (1/I–8/IV) auf dem Substrat (12, 13) bestimmt werden, c) in einem zweiten Schritt fur alle Zielpositionen berechnet wird, wann der jeweils einer Zielposition zugeordnete Dosierkopf bei Bewegung in Richtung der ersten Verfahrrichtung auf Hohe der anzufahrenden Zielposition ist und wie weit der Dosierkopf in Richtung der zweiten Verfahrrichtung verstellt werden muss, um die zugeordnete Zielposition zu erreichen, d) dann die Dosiereinrichtung (10) relativ zu dem Substrat (12, 13) verfahren wird, wobei die jeweils den Zielpositionen zugeordneten Dosierkopfe (A, B und C) in Richtung der zweiten Verfahrrichtung entsprechend der in Schritt c berechneten Werte verstellt werden und jeweils fur einen zugeordneten Dosierkopf einer Triggersignal erzeugt wird, wenn dieser in Richtung der ersten Verfahrrichtung auf Hohe der Zielposition ist, das diesen zur Dosierung veranlasst e) der Vorgang durch wiederholtes Verfahren der Dosiereinrichtung (10) auf parallelen zueinander versetzten Bahnen in Richtung der ersten Verfahrrichtung solange wiederholt wird, bis in allen anzufahrenden Zielpositionen auf dem Substrat (12, 13) die jeweils gewunschte Substanz aufgetragen ist.