증착조건이 질화탄소 박막의 표면구조 및 광학적 특성에 미치는 효과
2004
RF 마그네트론 스퍼터링 방법으로 질화탄소 박막을 제작하여 증착 때의 질소가스 압력(20 - 150 mTorr) 및 증착 기판의 온도 변화가 박막의 마이크로 표면구조 및 광학적 특성에 미치는 효과를 검토했다. 박막의 증착율은 질소가스의 압력이 높을 수록 감소했다. 박막의 표면구조는 질소가스의 압력이 작을 경우와 증착기판의...
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