Procédés d'attaque de tranche asymétrique, photopile comprenant la tranche ainsi attaquée et procédé de fabrication correspondant

L'invention concerne deux tranches pour photopile dont seulement les surfaces de reception lumineuse sont attaquees selectivement qui peuvent etre realisees simultanement par chevauchement des deux tranches et attaque monoface ou attaque asymetrique. L'invention concerne en outre un procede d'attaque de tranche qui consiste a effectuer une attaque monoface ou une attaque asymetrique sur la tranche, chacune de ces deux operations consistant en un chevauchement des deux tranches et en une attaque des tranches se chevauchant, et elle concerne enfin une photopile comportant les tranches attaquees.